DADES IDENTIFICATIVES									2007_08
Assignatura	CLEAN ROOM TRAINING							Codi	205151206
Ensenyament	Nanociència i Nanotecnologia (2006)							Cicle	2on
Descriptors	Crèd.		Tipus	Curs	Període
	2.5		Optativa		Únic anual
Llengua d'impartició	Anglès
Departament	Química Analítica i Química Orgànica
Coordinador/a	RIUS FERRÚS, FRANCISCO JAVIER				Adreça electrònica	fxavier.rius@urv.cat
Professors/es	RIUS FERRÚS, FRANCISCO JAVIER
Web
Descripció general i informació rellevant	Introducció al mètode de treball en Sala Blanca. Realització de diversos processos senzills de micro i nano tecnologia.

Competències Tipus A Codi Competències Específiques   Recerca Tipus B Codi Competències Transversals   Recerca Tipus C Codi Competències Nuclears   Recerca Objectius d'aprenentatge Objectius Competències Continguts Tema Subtema Tema 1. Introducció. Concepte de Sala Blanca. Tipus i classes de sales blanques. Necessitats de treballar en Sala Blanca. Tema 2. Mode de treball en sala blanca. Fonts de contaminació i maneres d’evitar-ho. Mesura del nivell de contaminació. Mesures de seguretat. Tema 3. Descripció dels processos tecnològics habituals en Sala Blanca. Distribució dels equips en funció dels processos. Tema 4. El concepte de ‘RUN’: conjunt de processos encadenats. Realització pràctica d’un RUN. Documentació a Sala Blanca. Tema 5. Coneixement pràctic dels processos de neteja. Tema 6. Coneixement pràctic dels processos de fotolitografia. Disseny d’una màscara, deposició de resina, exposició i revelat Tema 7. Coneixement pràctic dels processos de gravat. Gravats isotròpics i anisotròpics. Gravats secs (RIE). Gravats humits. Tema 8. Coneixement pràctic dels processos de deposició. Deposició en fase vapor. Deposició de capes dielèctriques. Deposició de metalls (evaporació i “sputtering”). Tema 9. Coneixement pràctic dels processos a alta temperatura i de creixement. Porcessos d’oxidació i recuit. Tema 10. Coneixement pràctic dels processos de nanolitografia. Processos alternatius a la litografia òptica. Litografia per feixos d’electrons, litografia per microcontacte, litografia per nanoimpressió i litografia per AFM. Tema 11. Inspecció i caracterització de processos. Microscòpia òptica i electrònica. Profilometria. Caracterització eléctrica. Elipsometria. Planificació Metodologies  ::  Proves   Competències (*) Hores a classe Hores fora de classe (**) Hores totals Activitats Introductòries 0 0 0   Sessió Magistral 0 0 0 Pràctiques a través de TIC 0 0 0 Treballs 0 0 0 Seminaris 0 0 0   Atenció personalitzada 0 0 0     (*) En el cas de docència no presencial, són les hores de treball amb suport vitual del professor. (**) Les dades que apareixen a la taula de planificació són de caràcter orientatiu, considerant l’heterogeneïtat de l’alumnat Metodologies Metodologies   Descripció Activitats Introductòries Tres sessions magistrals introductòries per poder treballar els conceptes fonamentals d’aquesta matèria. Sessió Magistral Pràctiques a través de TIC a) Visites a diverses sales blanques de Catalunya (IMB-CSIC, UAB, PCB-UB, ICFO) b) Realització pràctica d’un RUN c) 7 Sessions pràctiques de treball a Sala Blanca corresponents als temes 5-11. d) Presentació d’un treball específic Treballs Per tal de poder afavorir els aprenentatges, no només de les competències específiques sinó també de les generals i de les transversals, s’ha planificat una part important del treball en grup. Tant el món laboral com el de la recerca s’articulen al voltant de grups d’activitat en moltes ocasions interdisciplinars i transnacionals. Seminaris Els seminaris seran espais per treballar els temes d’actualitat que vagin sorgint durant el desenvolupament del curs i que tenen a veure amb els avenços i darreres tendències tant educatives com tecnològiques. Atenció personalitzada Descripció Avaluació   Descripció Pes   Altres comentaris i segona convocatòria Fonts d'informació Bàsica Complementària Recomanacions