IDENTIFYING DATA									2007_08
Subject	CLEAN ROOM TRAINING							Code	205151206
Study programme	Nanociència i Nanotecnologia (2006)							Cycle	2on
Descriptors	Credits		Type	Year	Period
	2.5		Optativa		Únic anual
Modality and teaching language	See working groups
Department	Química Analítica i Química Orgànica
Coordinator	RIUS FERRÚS, FRANCISCO JAVIER				E-mail	fxavier.rius@urv.cat
Lecturers	RIUS FERRÚS, FRANCISCO JAVIER
Web
General description and relevant information	Introducció al mètode de treball en Sala Blanca. Realització de diversos processos senzills de micro i nano tecnologia.

Competències Type A Code Competences Specific   Recerca Type B Code Competences Transversal   Recerca Type C Code Competences Nuclear   Recerca Objectius d'aprenentatge Objectives Competences Continguts Topic Sub-topic Tema 1. Introducció. Concepte de Sala Blanca. Tipus i classes de sales blanques. Necessitats de treballar en Sala Blanca. Tema 2. Mode de treball en sala blanca. Fonts de contaminació i maneres d’evitar-ho. Mesura del nivell de contaminació. Mesures de seguretat. Tema 3. Descripció dels processos tecnològics habituals en Sala Blanca. Distribució dels equips en funció dels processos. Tema 4. El concepte de ‘RUN’: conjunt de processos encadenats. Realització pràctica d’un RUN. Documentació a Sala Blanca. Tema 5. Coneixement pràctic dels processos de neteja. Tema 6. Coneixement pràctic dels processos de fotolitografia. Disseny d’una màscara, deposició de resina, exposició i revelat Tema 7. Coneixement pràctic dels processos de gravat. Gravats isotròpics i anisotròpics. Gravats secs (RIE). Gravats humits. Tema 8. Coneixement pràctic dels processos de deposició. Deposició en fase vapor. Deposició de capes dielèctriques. Deposició de metalls (evaporació i “sputtering”). Tema 9. Coneixement pràctic dels processos a alta temperatura i de creixement. Porcessos d’oxidació i recuit. Tema 10. Coneixement pràctic dels processos de nanolitografia. Processos alternatius a la litografia òptica. Litografia per feixos d’electrons, litografia per microcontacte, litografia per nanoimpressió i litografia per AFM. Tema 11. Inspecció i caracterització de processos. Microscòpia òptica i electrònica. Profilometria. Caracterització eléctrica. Elipsometria. Planificació Methodologies  ::  Tests   Competences (*) Class hours Hours outside the classroom (**) Total hours Activitats Introductòries 0 0 0   Sessió Magistral 0 0 0 Pràctiques a través de TIC 0 0 0 Treballs 0 0 0 Seminaris 0 0 0   Atenció personalitzada 0 0 0     (*) On e-learning, hours of virtual attendance of the teacher. (**) The information in the planning table is for guidance only and does not take into account the heterogeneity of the students. Metodologies Methodologies   Description Activitats Introductòries Tres sessions magistrals introductòries per poder treballar els conceptes fonamentals d’aquesta matèria. Sessió Magistral Pràctiques a través de TIC a) Visites a diverses sales blanques de Catalunya (IMB-CSIC, UAB, PCB-UB, ICFO) b) Realització pràctica d’un RUN c) 7 Sessions pràctiques de treball a Sala Blanca corresponents als temes 5-11. d) Presentació d’un treball específic Treballs Per tal de poder afavorir els aprenentatges, no només de les competències específiques sinó també de les generals i de les transversals, s’ha planificat una part important del treball en grup. Tant el món laboral com el de la recerca s’articulen al voltant de grups d’activitat en moltes ocasions interdisciplinars i transnacionals. Seminaris Els seminaris seran espais per treballar els temes d’actualitat que vagin sorgint durant el desenvolupament del curs i que tenen a veure amb els avenços i darreres tendències tant educatives com tecnològiques. Atenció personalitzada Description Avaluació   Description Weight   Other comments and second exam session Fonts d'informació Bàsica Complementària Recomanacions